EUV光刻机不重要了
芯片制造是最近两年提的最多的话题，本质原因是华为的遭遇，让我国企业明白，在半导体制造方面我国还存在着短板，只有补齐这些短板，未来我国企业才可以更自由的进行技术发展。
因此，我国提出了在2025年实现芯片自给率70%的目标，而为了实现这一目标，国内一批半导体芯片企业都开始积极行动起来，中科院、清华大学等科研机构也开始了加速EUV光刻机的研发道路。
毕竟，当下在我国芯片制造环节中，最为缺失的一环就是EUV光刻机，由于ASML公司不向我国出口EUV光刻机，导致我国芯片代工企业的代工制程无法向7nm以下下探，如果EUV光刻机技术能够被突破，那么我国芯片技术将追上世界一流水准，这是当前国内公认的。
但是，在2021年龙芯总工程师胡伟武却正式发话，提出了一个不同的观点，胡伟武表示，“14nm已经够用了，暂时没有必要研发5nm”，面对这种说法，外界很多人都无法理解和接受，因为大众接收到的信息就是，当下无论是移动芯片还是PC芯片的制程都开始向5nm之下下探，台积电甚至开始了3nm代工工艺的研发，所以，怎么能够说14nm已经够用了呢？
如果说14nm已经够用的话，那就没有必要让中科院和清华大学研发EUV光刻机了，因为14nm芯片不需要EUV光刻机，DUV光刻机就已经足够了，而DUV光刻机我国的上海微电子公司已经有能力制造了。
华为已经验证
那么，事实是否真的是这样呢？
答案当然是否定的，胡伟武工程师是基于实际应用立场给出的观点，因为从当下市场应用的角度来统计的话可以发现，14nm制程和28nm制程研发的芯片能覆盖现实生活中90%以上的芯片应用场景，无论是汽车芯片还是家电使用的芯片大多都是基于14nm或者是28nm制造的。
这一点华为也已经验证，在2019年后期，华为遭遇芯片限制后，但是5G通信业务依旧可以正常发展，根本原因就是华为的很多基站所需芯片都通过28nm制程代工实现了继续供应。
所以，当下唯一还困扰着华为的只是手机业务所需的芯片，因为当下5nm和7nm制程更多的就是应用在智能手机和个人电脑市场。
这一点倪光南院士和胡伟武工程师也是有共识的，倪光南院士也曾说过，“我国体系可以满足新基建、关键信息基础设备业务的需求，只是在手机芯片上会有影响”。
所以，综合来看，当下即便是断供芯片，对我国企业的实际发展也仅限于智能手机业务和个人电脑业务而已，其它方面并没有多大影响，但是突破EUV光刻机技术还是势在必行的，毕竟有些技术你可以不用，但是绝对不能没有，并且当EUV光刻机突破后，我国的芯片技术发展也将进入新的时代。
总结
届时，以我国的制造能力，我国将成为全球芯片制造的中心，无论是三星电子还是英特尔，未来想要获得性价比更高的EUV光刻机都还是需要从我国市场进口，同时类似于华为等企业将再也不用担心芯片事业发展遭遇卡壳的问题，到时候我国也将会诞生更多的芯片设计公司，全球芯片市场的发展格局也将逐步东移。
所以说，当下即便是对于EUV光刻机和5nm制程芯片不是特别需要，但是突破EUV光刻机依旧是越早越好的。
你觉得我国还需要多久才能够实现EUV光刻机的突破呢？
